公司动态
您当前的位置: 首页 > 业务案例 > 半导体

光刻胶实验效果测量

修改时间:2022-12-26 15:54:38     浏览次数:121

行业背景:

光刻胶生产工艺复杂,技术壁垒高。

国产化替代进程中,除了满足客户实际需求以外,性能参数和国外供应商匹配是必不可少的一个过程。 

毕竟目前高端应用光刻胶技术主要掌握在日、美等公司手中,行业标准和实际应用均无法直接跨越。


研发和量产需要企业的长期技术积累,不断进行配方调试。原材料比重的微调和光照参数调节都会直接影响到光刻胶的各个性能指标。


案例内容:

①接到国内某光刻胶生产厂家头部客户的咨询。

②对不同配方、光照参数后的光刻效果进行快速三维形貌构建及测量。


最终板石智能提供的白光干涉测量方案,可真实还原周期三维形貌,精确测量蚀刻高度/宽度,专业的技术和服务获得客户信赖和好评。


©2019 板石智能科技(深圳)有限公司 版权信息 | 鄂ICP备19020151号